某半导体材料手工制造工业企业因晶圆擦洗工作导致含氨废气，蓄水量200吨/天。废气中除氟化物外还富含氟化物和微量分析巨资属，净化处理难易度大。是时间排放量规定要求规定要求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理物质及的来源 晶圆洗涤废水处理方法（首要原因）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺流程工业废水：含进样器铜、镍等巨资属，pH值浮动大 CMP磨细废水处理：含硅颗粒物及氟化物 进行处理工艺技术生产工艺 通过"物理沉淀物中+膜剥离 +折点氯化"搭档工艺技术： 预进行处理 ：加药CaCl2除氟，的控制pH在7.5-8. 超滤膜装置 ：清除0.01μm上面的颗粒肥料物 反覆盖精浓 ：将高锰酸盐指数浓缩提炼至1000mg/L以上的 折点氯化 ：精度管理氯污泥脱水量，将氯离子转化成为氦气 阴阳离子相互交换 ：得到保障血本属考核标准 既定功效 高锰酸盐指数稳固＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含氧量不超查测限 水回收率达75% 污泥处理出现量变少40%