某半导体设备净化处理器加工厂制作厂在晶圆加工厂流程中，采用硅烷去硅外加繁殖，烟气洗條塔会产生高氧浓度含硅工业废污水。工业废污水具pH动荡大（2-11）、硅含碳量高的优点，传统与现代净化处理方案易突然出现硅垢拥堵疑问。 生产废水材质及来源地 污水包括组成成分为： 溶解出来性硅酸盐 ：SiO₂密度达1000-1500mg/L 磷酸/氢防氧化钠 ：洗衣机清洗剂塔酸碱度洗衣机清洗剂液残存 粒子硅 ：納米级SiO₂固体 痕量砷 ：制造原材料杂质残渣带到 操作工艺设备具体步骤 自主创新分为"二级与+膜活性炭过滤+挥发晶粒"新工艺： 6级结合 ：用CaO调理pH至4-5，制成硅酸钙结晶，硅弄掉率60%。 中级中合 ：加Na₂CO₃将pH加强至9，进一歩沉淀自己结余硅，串联用镁剂除砷。 反渗透装置操作系统 ：0.02μm陶瓷图片膜筛选纳米级级硅颗粒物，通量相对稳定在80LMH。 MVR蒸发掉器 ：萃取高盐废水处理方法，心得出Na₂SO₄副产的，水循环率超90%。 最后作用 总硅从1500mg/L降落到5mg/L接下来 砷水平从0.8mg/L下降0.01mg/L 体系无积灰自动运行超出2年 去年回报硫酸钠钠氯化钠晶体约800吨